廠出售日本光弛OTFC-1550/1800  韓一1600/2050 真空電鍍膜機

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。（銷售技術楊經理：18103045976）

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

名細尺寸：

設備名稱 OTFC-1550CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1550mm×1800mm (H)

工件架 φ1400mm

工件架轉速 10rpm to 30rpm(可變)

光學膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學膜厚監控儀

波長范圍：350nm to 1100nm

反射式/透射式

水晶式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

機械性能：

排氣系統 機械泵+2個擴散泵+Polycold（或2個冷凝泵）

達到壓力 7.0×10-5 Pa 以下

排氣時間 15分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)

基板溫度 最高：350℃

工作條件：

設備尺寸 約5500mm(W)×7200mm(D)×3700mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約120KVA

水流量 180升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約10000kg

適用于L ED用光學薄膜、ITO膜、 反射防止膜、超多層薄膜等各種光學薄膜形成裝置

 

 

使用步驟

電控柜操作

1. 開水泵、氣源。

2. 開總電源。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。

4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和

高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。

DEF-6B操作

1. 總電源。

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

關機順序

1. 關高真空表頭、關分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時，再關維持泵。

 

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