轉(zhuǎn)讓日本光弛2350鍍膜機(jī)

概述：2.用途：此真空鍍膜機(jī)是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AF+AS膜）型光學(xué)鍍膜機(jī)，應(yīng)用于鍍膜機(jī)等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備
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2021-10-22 10:13:37 點(diǎn)擊21376次

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信用：4.0 隱性收費(fèi)：4.0

描述：4.0 產(chǎn)品質(zhì)量：4.0

物流：4.0 服務(wù)態(tài)度：4.0

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1.標(biāo)配參數(shù)：單槍、離子源、晶控、23公分的射頻源、熱阻蒸、頂部側(cè)部加熱、兩個(gè)擴(kuò)散泵、一個(gè)螺絲泵、一個(gè)機(jī)械泵

2.特征：磁密封驅(qū)動的基板旋轉(zhuǎn)式可得到穩(wěn)定和均勻的膜厚分布

3.配備：配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)；防污膜（AS 膜）批量生產(chǎn)。

4.性能：達(dá)到壓強(qiáng)7.0E-5Pa以下

5.配置參數(shù)：

真空室 Ф2350mm×H 1400mm

基板架 Ф2200 mm

基板架轉(zhuǎn)速 20rpm

晶振式膜厚計(jì) 6點(diǎn)式⽔晶傳感器

蒸發(fā)源電⼦槍1臺，熱阻蒸

達(dá)到壓強(qiáng) 7.0E-5Pa 以下

排強(qiáng)時(shí)間 15分以下（壓強(qiáng)〜2.0×10-3 Pa）

6.工作條件：

設(shè)備尺寸約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)

電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA

水流量 220升/分以上

空氣壓力 0.5-0.7mpa

重量約12000kg

hcgx2015發(fā)布的信息
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