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蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗) 

概述:蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗) 適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段;手動(dòng)、自動(dòng)控制模式;適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/

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蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗)
適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段  、芯片工藝段;手動(dòng)、自動(dòng)控制模式;適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch  Or  2 cassette/ Batch;
砷化鎵晶片 2-6inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch  Or  2 cassette/ Batch;碳化硅晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch  Or  2 cassette/ Batch;其它襯底晶片。制程應(yīng)用可用于切割后制程、磨邊后制程、研磨后制程(單面、雙面)、激光刻字后制程、拋光后制程(單面、雙面、清洗制程;、 顯影制程、 蝕刻(微蝕刻)制程、  去光阻清洗制程、 去蠟(膠)清洗制程、精密清洗制程、 光罩去光阻清洗制程。機(jī)臺(tái)封面采用聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm)     Or    China  SUS板材(厚度≧2mm);整體骨架表面噴涂處理  Or    China  SUS矩形材(厚度≧2mm);機(jī)臺(tái)視窗采用透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm)  Or    China  鋼化玻璃(厚度≧5mm);配有腐蝕液恒溫系統(tǒng)、 腐蝕液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、  超(兆)聲系統(tǒng)、全自動(dòng)供液系統(tǒng)、全自動(dòng)烘干系統(tǒng)、消防系統(tǒng)、可結(jié)合客戶(hù)端通訊協(xié)定資料儲(chǔ)存、CIM系統(tǒng)、資料分析儲(chǔ)存建立管理。蝕刻工藝自動(dòng)補(bǔ)藥液保證了工藝槽在運(yùn)行過(guò)程中濃度的穩(wěn)定性QDR沖洗模塊非常見(jiàn)排序式,可根據(jù)制程工藝設(shè)定;管路系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、伺服電機(jī)及絲杠導(dǎo)軌等關(guān)鍵核心部件均采用進(jìn)口標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,配置模組化,維護(hù)保修便利,非期貨庫(kù)存品工廠內(nèi)均建立安全存量;全程自動(dòng)化控制,幾何曲線(xiàn)加減速運(yùn)動(dòng),沖擊小、運(yùn)動(dòng)平穩(wěn),機(jī)械臂定位精度高;制程控制采用PLC控制方式;操作界面采用全圖形化中文彩色人機(jī)界面(10.4彩屏)設(shè)備制造北京華林嘉業(yè)科技有限公司(CGB);
蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗)
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