蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗)
概述:蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗) 適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段;手動(dòng)、自動(dòng)控制模式;適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/
賬戶(hù):
刷新時(shí)間:
2025-09-10 17:57:01 點(diǎn)擊103次
分類(lèi):
服務(wù)區(qū)域:
北京/大興/北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)
聯(lián)系電話(huà):
13911568117
王經(jīng)理
蝕刻清洗臺(tái)(硅片晶圓襯底外延片清洗)
適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段;手動(dòng)、自動(dòng)控制模式;適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;
砷化鎵晶片 2-6inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;碳化硅晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;其它襯底晶片。制程應(yīng)用可用于切割后制程、磨邊后制程、研磨后制程(單面、雙面)、激光刻字后制程、拋光后制程(單面、雙面、清洗制程;、 顯影制程、 蝕刻(微蝕刻)制程、 去光阻清洗制程、 去蠟(膠)清洗制程、精密清洗制程、 光罩去光阻清洗制程。機(jī)臺(tái)封面采用聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm) Or China SUS板材(厚度≧2mm);整體骨架表面噴涂處理 Or China SUS矩形材(厚度≧2mm);機(jī)臺(tái)視窗采用透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm) Or China 鋼化玻璃(厚度≧5mm);配有腐蝕液恒溫系統(tǒng)、 腐蝕液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、 超(兆)聲系統(tǒng)、全自動(dòng)供液系統(tǒng)、全自動(dòng)烘干系統(tǒng)、消防系統(tǒng)、可結(jié)合客戶(hù)端通訊協(xié)定資料儲(chǔ)存、CIM系統(tǒng)、資料分析儲(chǔ)存建立管理。蝕刻工藝自動(dòng)補(bǔ)藥液保證了工藝槽在運(yùn)行過(guò)程中濃度的穩(wěn)定性QDR沖洗模塊非常見(jiàn)排序式,可根據(jù)制程工藝設(shè)定;管路系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、伺服電機(jī)及絲杠導(dǎo)軌等關(guān)鍵核心部件均采用進(jìn)口標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,配置模組化,維護(hù)保修便利,非期貨庫(kù)存品工廠內(nèi)均建立安全存量;全程自動(dòng)化控制,幾何曲線(xiàn)加減速運(yùn)動(dòng),沖擊小、運(yùn)動(dòng)平穩(wěn),機(jī)械臂定位精度高;制程控制采用PLC控制方式;操作界面采用全圖形化中文彩色人機(jī)界面(10.4彩屏)設(shè)備制造北京華林嘉業(yè)科技有限公司(CGB);
[本信息來(lái)自于今日推薦網(wǎng)]
適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、PSS工藝段、外延工藝段 、芯片工藝段;手動(dòng)、自動(dòng)控制模式;適用于藍(lán)寶石晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;
砷化鎵晶片 2-6inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;碳化硅晶片2-8inch25 Pcs/cassette數(shù)量1 cassette/ Batch Or 2 cassette/ Batch;其它襯底晶片。制程應(yīng)用可用于切割后制程、磨邊后制程、研磨后制程(單面、雙面)、激光刻字后制程、拋光后制程(單面、雙面、清洗制程;、 顯影制程、 蝕刻(微蝕刻)制程、 去光阻清洗制程、 去蠟(膠)清洗制程、精密清洗制程、 光罩去光阻清洗制程。機(jī)臺(tái)封面采用聚丙烯磁白PP板材(厚度≧10mm) Or China SUS板材(厚度≧2mm);整體骨架表面噴涂處理 Or China SUS矩形材(厚度≧2mm);機(jī)臺(tái)視窗采用透明、抗靜電之聚氯乙烯PVC(厚度≧5mm) Or China 鋼化玻璃(厚度≧5mm);配有腐蝕液恒溫系統(tǒng)、 腐蝕液循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、 超(兆)聲系統(tǒng)、全自動(dòng)供液系統(tǒng)、全自動(dòng)烘干系統(tǒng)、消防系統(tǒng)、可結(jié)合客戶(hù)端通訊協(xié)定資料儲(chǔ)存、CIM系統(tǒng)、資料分析儲(chǔ)存建立管理。蝕刻工藝自動(dòng)補(bǔ)藥液保證了工藝槽在運(yùn)行過(guò)程中濃度的穩(wěn)定性QDR沖洗模塊非常見(jiàn)排序式,可根據(jù)制程工藝設(shè)定;管路系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、伺服電機(jī)及絲杠導(dǎo)軌等關(guān)鍵核心部件均采用進(jìn)口標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,配置模組化,維護(hù)保修便利,非期貨庫(kù)存品工廠內(nèi)均建立安全存量;全程自動(dòng)化控制,幾何曲線(xiàn)加減速運(yùn)動(dòng),沖擊小、運(yùn)動(dòng)平穩(wěn),機(jī)械臂定位精度高;制程控制采用PLC控制方式;操作界面采用全圖形化中文彩色人機(jī)界面(10.4彩屏)設(shè)備制造北京華林嘉業(yè)科技有限公司(CGB);


- hualinjiaye發(fā)布的信息
- 硅片清洗機(jī)
- 硅片清洗機(jī):可提供從研磨到最終清洗的全流程清洗工藝非標(biāo)設(shè)備定制(研磨后清洗:去除研磨磨粒,主要使用堿和界面清洗劑。堿性蝕刻清洗:去除研磨后的加工變形。前熱處理清洗:在RCA清洗工藝基礎(chǔ)上,調(diào)整工...
- 全自動(dòng)晶圓腐蝕機(jī)(多晶硅腐蝕機(jī)浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設(shè)備)
- 全自動(dòng)晶圓腐蝕機(jī)(多晶硅腐蝕機(jī)浸泡 式腐蝕清洗 電子清洗設(shè)備) 用于晶圓片的清洗;適用于單片6″8″12″晶圓片。可能采用兆聲波清洗(MHz級(jí)超聲)增強(qiáng)效率,尤其擅長(zhǎng)清除頑固顆粒和有機(jī)物;高壓噴淋與化...
- 晶圓單片清洗機(jī)
- 晶圓單片清洗機(jī) 用于晶圓片的清洗;適用于單片6″8″12″晶圓片。在半導(dǎo)體制造流程中,單片晶圓清洗機(jī)是確保芯片良率與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。機(jī)臺(tái)通過(guò)物理沖擊、化學(xué)腐蝕和表面改性等多維度手段,去除晶圓表面...
- 晶圓酸堿腐蝕機(jī)
- 酸堿腐蝕機(jī) 1.適用對(duì)象: 硅晶片2-12inch 25 Pcs/cassette,藍(lán)寶石晶片 2-8inch25 Pcs/cassette,砷化鎵晶片2-6inch 25 Pcs/cassette,碳化硅晶片2-8inch 25 Pcs/cassette 2.設(shè)備用途:用來(lái)將4、5、6英...
- 全自動(dòng)下蠟臺(tái)(硅片晶圓濕法刻蝕)
- 全自動(dòng)下蠟臺(tái)(硅片晶圓濕法刻蝕) 適用產(chǎn)業(yè)為半導(dǎo)體照明(LED)--襯底工藝段、芯片工藝段;制程應(yīng)用:減薄工藝段;適用對(duì)象為¢165mm、¢245mm、¢485mm等陶瓷盤(pán);3 Pcs/cassette,1 cassette/ Batch ;手...