可用于3C產(chǎn)品外觀件硅溶膠 微電子光學金屬以及藍寶石拋光
概述：SD-12040大粒徑硅溶規(guī)格：
硅溶膠濃度（SiO2%）：39～41
比重：1.28～1.30
Na2O%：≤0.5
PH值（25℃）：9～10.5
粘度(25℃, mPas)：≤10
平均粒徑(nm)：110～130
穩(wěn)定期：12個月
HSD-12040大粒徑硅
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SD-12040大粒徑硅溶規(guī)格：
硅溶膠濃度（SiO2%）：39～41
比重：1.28～1.30
Na2O%：≤0.5
PH值（25℃）：9～10.5
粘度(25℃, mPas)：≤10
平均粒徑(nm)：110～130
穩(wěn)定期：12個月
HSD-12040大粒徑硅溶膠應(yīng)用：
研磨拋光:
單質(zhì)硅硅溶膠以其良好的球性結(jié)構(gòu)、較為堅硬的質(zhì)地以及純凈的品質(zhì)，可以被很好地用作電子產(chǎn)品、金屬、玻璃、鏡面陶瓷、硅片、半導體材料等的研磨拋光材料。
HSD-12040硅溶膠可用于3C產(chǎn)品外觀件拋光、微電子、光電子、光學、金屬以及藍寶石拋光。[本信息來自于今日推薦網(wǎng)]
硅溶膠濃度（SiO2%）：39～41
比重：1.28～1.30
Na2O%：≤0.5
PH值（25℃）：9～10.5
粘度(25℃, mPas)：≤10
平均粒徑(nm)：110～130
穩(wěn)定期：12個月
HSD-12040大粒徑硅溶膠應(yīng)用：
研磨拋光:
單質(zhì)硅硅溶膠以其良好的球性結(jié)構(gòu)、較為堅硬的質(zhì)地以及純凈的品質(zhì)，可以被很好地用作電子產(chǎn)品、金屬、玻璃、鏡面陶瓷、硅片、半導體材料等的研磨拋光材料。
HSD-12040硅溶膠可用于3C產(chǎn)品外觀件拋光、微電子、光電子、光學、金屬以及藍寶石拋光。[本信息來自于今日推薦網(wǎng)]
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